在高温下以湿氧或干氧作为氧化剂,在硅片表面沉积氧化膜,可作为离子注入的阻挡层及注入穿透层(损伤缓冲层)、表面钝化、绝缘栅材料以及器件保护层、隔离层、器件结构的介质层等。 |
点评推荐
添加表情
发言
累计参与人数(0)
权利声明:
本站商品及服务信息均来自于合作方,其真实性、准确性和合法性由信息拥有者(合作方)负责。本站不提供任何保证,并不承担任何法律责任。
价格说明:
标价:商品展示的价格为参考价,并非最终交易价,该价格可能是实物商品的品牌专柜标价、商品吊牌价或由品牌供应商提供的正品零售价(如厂商指导价、建议零售价等)或该商品曾经展示过的销售价;亦可能是服务等非实物商品的初始洽谈价格,该价格仅供您参考;平台提供议价功能,最终交易价格以订单最终确认价格为准。
注:如您发现商品售价或促销信息有异常,建议购买前先联系卖方咨询。
注:如您发现商品售价或促销信息有异常,建议购买前先联系卖方咨询。