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一种图形化电磁屏蔽结构
类型:
知识产权-专利
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专利类型:实用新型专利
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发明人:龚超; 马昌期; 林剑; 曾超

本实用新型公开了一种图形化电磁屏蔽结构,包括透明基体、导电轮廓体以及导电网络体;所述透明基体的表面设有多条第一线槽,多条所述第一线槽之间相互连接形成图形轮廓结构,所述导电轮廓体嵌入所述图形轮廓结构;所述透明基体的表面设有多条第二线槽,多条所述第二线槽之间相互连接形成空心网络结构,所述空心网络结构填充于所述图形轮廓结构的内部区域和/或外部区域,所述导电网络体嵌入所述空心网络结构。采用本实用新型,兼具良好的透明性、屏蔽效果以及耐热性能,图形的形状和尺寸不受屏蔽性能限定。

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