发明人：杨远达; 邱呈溶; 赵旭东

本申请属于图像处理技术领域，公开了一种掩膜优化处理方法、装置、电子设备及存储介质，通过获取平行四边形物体的待优化的实际掩膜和对应的标准掩膜；对所述实际掩膜进行过滤处理，以去除最大连通域以外的连通域，得到第一掩膜；调整所述标准掩膜的标准连通域的位姿得到第二掩膜，以使所述第二掩膜与所述第一掩膜的匹配度最高；获取所述标准连通域的第二长轴斜率和第二短轴斜率；根据所述第二长轴斜率和所述第二短轴斜率把所述第一掩膜的所述最大连通域修正为平行四边形连通域，得到优化掩膜；从而可改善已生成的掩膜的质量，有利于提高机械臂抓取物体的可靠性。