功能：工艺均匀性要求：450mm衬底上实现要求的非均匀性； （1）金属膜层：膜厚度非均匀性≤±２.0％； （2）氮化物膜层：膜厚度非均匀性≤±２.0％； 2）设备整机膜层沉积的 （1）镀膜标准： A以M2光洁度Ra0.6以下标准试片为镀膜基材，硬度HRC60 B镀膜种类：TIALN(靶材原子比：33：67） TIN (靶材纯钛） C膜层厚度2.5 微米 （2）结合力标准：压痕形态观察 （以欧洲压痕形状图标准）高速钢M2试片压力为150kg

技术指标：1、真空室极限真空度：≤4×10-4Pa。 2、整体检漏率：≤1.0x10-10Pa.l/s 3、抽气速率：恢复真空时间指标：从大气至5×10-3Pa≤28分钟。 4、工作温度：≥450℃ 5、控制方式：包含手动控制和自动控制两种； 6、放置衬底尺寸：高度500 mm；