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发明人：潘利敏; 杨元东; 汪陇军; 王贤超; 郑贵友
本发明公开用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法。所述无光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：55.0～60.0%、Al2O3：16.0～20.0%、Fe2O3：0.1～0.5%、TiO2：0.01～0.2%、CaO：0.5～2.5%、MgO：0.5～2.0%、K2O：2.5～4.0%、Na2O：1.5～3.0%、BaO：8.0～10.0%，SrO：0.5～2.5%，ZnO：0.5～2.0%，烧失：4.0～6.0%。
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