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高真空磁控溅射薄膜生长系统(含真空泵)
类型:
仪器共享-机时共享服务
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地区 广东省佛山市
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仪器所在单位内部编码:

0200452

 

规格型号:

中科信佳 CK-450

 

主要技术指标:

系统极限真空:≦2×10-5Pa(经烘烤除气后); 系统真空捡漏漏率:≦5.0×10-5Pa.1/S; 系统抽速:冲干燥氮气破真空后 20 分钟内再抽气,30 分钟可达到 6.6×10-4Pa; 停泵关机 12 小时后真空度:≦1Pa

 

主要功能:

它可用于在高真空背景下,充入高纯氩气,采用磁控磁射方式制备 纳米级单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金化合物、氧化物等, 应用于材料研究,功能器件开发。

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