发明人：范维仁; 陈国荣; 赖佛阳; 丘陵; 成会明

本发明公开了一种高定向水平排列氮化硼膜的制备方法，包括以下步骤：使用氮化硼粉末作为原料以制备浆料；将所制备的浆料涂布于离型膜上，得到薄膜；对薄膜进行压缩处理；重复多次上述涂布、压缩处理步骤，得到预处理薄膜；对预处理薄膜进行热压处理，得到高定向水平排列氮化硼膜。本发明通过筛选一定片径大小的氮化硼粉末与涂布厚度匹配，匹配比例为涂布厚度：氮化硼片径＝2‑4：1，使浆料中聚合物固化成型前有更多的氮化硼粉体被水平定向排列，经过多次涂布压缩及热压处理，得到高定向水平排列的氮化硼膜，从而提高其平面导热性能及介电性能；解决传统方式能耗大、难以规模化生产及一次涂布压缩成型的氮化硼片层水平定向排列程度低的问题。