发明人:潘利敏; 庞伟科; 杨元东; 邓来福; 潘岳
本发明涉及一种抑晶干粒、晶花定位全抛结晶釉艺术岩板及制备方法。所述抑晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,Na2O:5.0‑8.0%;SiO2:55‑65%;Al2O3:10‑20%;CaO:2.0‑8.0%;MgO:0.1‑2.0%;ZnO:2‑3%;B2O3:0.2‑0.5%;PbO:0.2‑0.5%。
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