发明人：刘一军; 杨元东; 杨倩; 张克林; 郑贵友; 王贤超

本发明涉及一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法。所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌6～9%，碳酸钡12～14%，烧滑石7～9%，高岭土8～10%，325目刚玉6～12%，玻璃熔块23～27%，硅酸锆1～3%。该全抛釉烧成后透明度高、硬度达到6级，耐磨等级达到6000转（4级）。