发明人：温海键; 张羽; 岳大川; 蔡世星; 李小磊; 伍德民

本公开涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示面板。阵列基板的制备方法包括形成LED外延叠层结构；在LED外延叠层结构上依次形成阳极和第一硬掩膜层；在第一硬掩膜层上形成第一图形；在LED外延叠层结构形成第二图形；将第二衬底与第一硬掩膜层键合，去除第一衬底并在LED外延叠层结构背离第二衬底的一侧依次覆盖阴极和第二硬掩膜层；在第二硬掩膜层上形成第三图形；刻蚀阴极以及LED外延叠层结构至连通第二图形形成多个像素单元。本公开的技术方案，解决了由于采用光刻胶造成像素单元的电学接触受到影响，导致开启电压变大等电学问题，以及对像素单元的侧壁造成损伤，影响像素单元的发光效率的问题。