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基于LD/LED光源曝光的无掩膜数字光刻技术
类型:
科技成果-新能源与节能
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地区 广东省佛山市南海区
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高精度、高效低成本和环保的LD/LED无掩模数字光刻技术,解决照明模组和成 像模组的优化组合结构配置等问题。采用新的技术方法,开发用于高端电子产品PCB、FPD 和MOEMS等光刻生产的的新一代光刻机。

1、核心技术:

光刻精度介于普通曝光机和进口髙端直写光 刻机之间、进行大面积和快速光刻应用的光 学模组的模块化技术。

独特的光密度均化和光束整形技术获得UV 均匀光而形成光源照明模组;利用娓眼点阵 成像技术构建两个物镜组,消除格榭效应和 获得大面积成像和快速曝光而形成投影光学 成像模组。

2、关键科学问题:

从根本上着力解决无掩模数字光刻在工业应用中存在的DMD微镜阵列因衍射而使成像质量 降低、二进制开关因不稳而使光刻难以均匀和足量曝光的两大科学技术难題。光源照明模组、DMD和投影系统光学成像模组相互关联融合,建立新型光学引擊,改善成 像质量和加强曝光量及其均匀性•,建立耦合匹K、物像共扼、部分相干光叠加的新塑成像理论

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