发明人：郑梦洁; 董君; 丁宇峰; 潘美妍

光学防伪结构及其制作方法，涉及光学防伪结构技术领域，光学防伪结构，包括从下往上依次层叠的第一金属层、中间介质层、第二金属层、黏贴层，还设有若干个隔槽，隔槽上下贯穿中间介质层和第二金属层，且为闭环的环形槽，第一金属层与每个隔槽所围区域内的中间介质层、第二金属层共同构成一个显色单元，显色单元为FP腔显色单元，黏贴层可剥离，设置隔槽的结构，使得黏贴层被剥离时，第二金属层的各个显色单元以外的部分随黏贴层一同被剥离，以使各个显色单元在被光照时共同呈现第一防伪图像。其制作方法为依次制作第一金属层、中间介质层、第二金属层和黏贴层，在制作中间介质层后，先制作形成隔槽和偏振孔，再制作第二金属层。