主要技术指标：
1.样品台可以溅射4英寸及以下尺寸基片，其转动范围为0~40RPM；适应于在氧气环境中加热，最高加热温度可达850℃；PID 温控精度为±1℃；带射频/直流偏压功能，包括100W的射频电源、自动匹配网络；2.所有靶枪均采用稀土磁铁材质，可被烘干至200℃且无需在烘干系统前移除磁铁，适应10-11 Torr的真空环境

主要功能：
可以制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点

主要学科领域：
物理学,材料科学

服务内容：
提供测试服务

预约服务网址：
https://gxw.jihualab.com:8154/#/home